OUDU, societas innovatrix in industria poliendi praeclara, novum suum instrumentum poliendi tri-graduale adamantem altae qualitatis emisit.Discus Poliendi Sicci, normas politurae superficialis denuo definiens. Hoc productum modernissimum technologiam particularum adamantinarum modernissimam cum systemate trium graduum diligenter elaborato coniungit, eventus praestantes in applicationibus tam humidis quam siccis praestans.
Primus gradus disco abrasivo crasso utitur, magnis particulis adamantis utens, quae rasuras profundas, texturas asperas, et superficies inaequales efficaciter tollunt. Secundus gradus disco abrasivo mediocri utitur, qui superficiem refinat, imperfectiones minores minuens et fundamentum laevum creans. Denique tertius gradus, grana subtili, superficies ad splendorem splendidum, speculi similem, perducit. Eius versatilitas insignis id aptum facit ad amplam materiarum varietatem. Exempli gratia, in proiectis restaurationis lapidum, facies marmoreas detritas revivere potest, dum in constructione novorum pavimentorum tessellarum ceramicarum, superficiem impeccabilem praestat.
Ex materiis summae qualitatis constructae, discos ad usum gravem sustinendum designantur, praebentes durabilitatem eximiam et vitam utilem extensam. "Novus noster disco poliendi est fructus annorum investigationis et progressionis," dixit procurator producti OUDU. "Processum poliendi simplificat, tempus et laborem conservans, dum summas qualitatis normas servat." Primi utentes, inter quos lapidarii professionales et periti rerum manu factarum, productum laudaverunt. Unus redemptor dixit, "Tempus meum poliendi dimidiat sine qualitate sacrificanda, res omnino mutans pro nostris inceptis." Dum OUDU pergit mercatum suum extendere, novus...discus poliendiparatum est ut res principalis industriae fiat.
Si de nostris productis vel indice pretiorum quaeris, inscriptionem electronicam tuam nobis relinque et intra horas XXIV tecum communicabimus.
E-mail：tianli03@tl-fj.com
Telephonum: +86 139 5987 5673
Whatsapp: +86 158 8090 2869
Tempus publicationis: XXIX Maii, MMXXXV
